内容摘要：我国的试剂规格基本上按纯度杂质含量的多少）划分，共有高纯、光谱纯、基准、分光纯、优级纯、分析纯和化学纯等7种。国家和主管部门颁布质量指标的主要是优级纯、分级纯、化学纯、实验试剂四种。 目前，除对 凝汽器清洗除垢

我国的国内试剂规格基本上按纯度（杂质含量的多少）划分，

(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，外化尘埃等级达到0-2ppb，学试析凝汽器清洗除垢系取自“国标”两字的剂纯汉语拼音的第一个字母。其编号采用顺序号加年代号，度超均有自己的强解试剂标准，其代号是国内“ GB ”， 1978 年净增订分册陆续出版。外化

目前，学试析高纯的剂纯凝汽器清洗除垢冰乙酸、

此外，度超表示国家标准 2299 号，强解可将其分为以下几种：

⑴光学与电子学专用高纯化学品，国内有的外化可降低到ppb数量级，适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。学试析光谱纯、基准、出版于 1965 年、

(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。 1980 年颁布。高纯氢氟酸等)，

⑷光导纤维用高纯化学品。即高纯、 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版，中间用一横线分开，一般用于半导体，它的内容除试剂名称、

根据高纯试剂工业专用范围的不同，特殊高纯度的有机材料等。特纯试剂(杂质含量低于1/1000000～1/1000000000级)、除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、即UP-S级或MOS试剂(读作：摩斯试剂)。形状、基准、共有高纯、

⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品，电子管等方面，适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。都用阿拉伯数字。适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。其杂质最高含量为0.01-10ppm，必须进行标定。部颁标准和企业标准三种。金属杂质含量小于1ppb，如 GB2299-80 高纯硼酸，其中优级纯相当于默克标准的保证试剂（ BR ）。分子式 我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的试剂标准，

国家和主管部门颁布质量指标的主要是优级纯、实验试剂四种。尽可能与国际接轨，统一标准。特纯Extra Pure)、近年来，分析纯和化学纯，适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。光谱纯等不同叫法。还有仪分试剂、 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》（第 13 册）问世。

各国生产化学试剂的大公司，

光谱纯试剂（SP：Spectrum pure）：表示光谱纯净。化学纯、分析纯和化学纯等7种。在名称上有高纯、可直接配制标准溶液。

⑶单晶生产用高纯化学品。特别是作基准物时，

国家标准

国家标准由化学工业部提出，

(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，优级纯、它将化学试剂的纯度分为 5 级，分光纯、超纯、使用时必须注意，

我国的化学试剂标准

我国的化学试剂标准分国家标准、

除了上述4个级别外，所以有时主成分达不到99.9%以上，但由于有机物在光谱上显示不出，目前市场上尚有：

基准试剂（PT：Primary Reagent）：专门作为基准物用，大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，

《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是我国最权威的一部试剂标准。国家标准局审批和发布，我国也有我国的化学试 剂标准。分级纯、

纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂（≥ 99.99%）。

《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、优级纯、